LPE 에피택셜 성장용 Semicorex SiC 코팅 배럴 서셉터는 장기간에 걸쳐 일관되고 신뢰할 수 있는 성능을 제공하도록 설계된 고성능 제품입니다. 균일한 열 프로필, 층류 가스 흐름 패턴 및 오염 방지로 인해 웨이퍼 칩의 고품질 에피택시층 성장에 이상적인 선택입니다. 맞춤형 기능과 비용 효율성으로 인해 시장에서 매우 경쟁력 있는 제품입니다.
LPE 에피택셜 성장을 위한 당사의 SiC 코팅 배럴 서셉터는 뛰어난 비용 대비 가치를 제공하는 고품질의 신뢰할 수 있는 제품입니다. 고온 내산화성, 균일한 열 프로필 및 오염 방지로 인해 웨이퍼 칩의 고품질 에피택시층 성장에 이상적인 선택입니다. 유지 보수 요구 사항이 적고 사용자 정의가 가능하여 시장에서 매우 경쟁력 있는 제품입니다.
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LPE 에피택셜 성장을 위한 SiC 코팅 배럴 서셉터의 파라미터
CVD-SIC 코팅의 주요 사양 |
||
SiC-CVD 속성 |
||
결정 구조 |
FCC β 단계 |
|
밀도 |
g/cm ³ |
3.21 |
경도 |
비커스 경도 |
2500 |
입자 크기 |
μm |
2~10 |
화학적 순도 |
% |
99.99995 |
열용량 |
J·kg-1·K-1 |
640 |
승화 온도 |
℃ |
2700 |
쇠약한 힘 |
MPa(RT 4점) |
415 |
영률 |
GPA (4pt 굽힘, 1300â) |
430 |
열팽창(C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
열 전도성 |
(W/mK) |
300 |
LPE Epitaxial Growth를 위한 SiC Coated Barrel Susceptor의 특징
- 흑연 기판과 실리콘 카바이드 층 모두 밀도가 좋으며 고온 및 부식성 작업 환경에서 우수한 보호 역할을 할 수 있습니다.
- 단결정 성장에 사용되는 탄화 규소 코팅 서셉터는 표면 평탄도가 매우 높습니다.
- 흑연 기판과 실리콘 카바이드 층 사이의 열팽창 계수 차이를 줄이고 접착 강도를 효과적으로 향상시켜 균열 및 박리를 방지합니다.
- 흑연 기판과 실리콘 카바이드 층 모두 열전도율이 높고 열분산 특성이 우수합니다.
- 고융점, 고온 내산화성, 내식성.