RTP 흑연 캐리어 플레이트

Semicorex의 RTP 흑연 캐리어 플레이트는 에피택셜 성장 및 웨이퍼 핸들링 처리를 포함하는 반도체 웨이퍼 처리 애플리케이션을 위한 완벽한 솔루션입니다. 당사의 제품은 우수한 내열성과 열 균일성을 제공하도록 설계되어 에피택시 서셉터가 높은 내열성 및 내부식성으로 증착 환경에 노출되도록 합니다.

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제품 설명

당사 제품은 우수한 열 분포 특성을 제공하는 고순도 SiC 코팅 흑연을 특징으로 하여 SiC 코팅 캐리어가 균열 및 박리 없이 매끄러운 표면을 갖도록 합니다. 당사의 RTP 흑연 캐리어 플레이트는 실리콘 카바이드가 미세하게 코팅되어 표면이 매끄럽고 결함이 없도록 합니다. 가혹한 화학세척에 대한 내구성이 뛰어나며 균열 및 박리가 발생하지 않도록 설계되었습니다.
우리는 경쟁업체가 따라올 수 없는 가격 이점을 제공하며 중국에서 장기적인 파트너가 되기 위해 최선을 다하고 있습니다.
당사의 RTP 흑연 캐리어 플레이트를 사용하면 우수한 성능, 우수한 내열성 및 열 균일성을 보장할 수 있습니다. SiC 코팅 캐리어는 고온에 견딜 수 있도록 설계되었으며 화학적 세척에 대한 내성이 강하여 수년 동안 지속됩니다. 우리 제품은 또한 사용하기 쉽도록 설계되어 신규 사용자와 숙련된 사용자 모두에게 이상적입니다.
Semicorex는 고객에게 고품질의 제품과 서비스를 제공하기 위해 최선을 다하고 있습니다. 우리는 최고의 재료만을 사용하며 우리 제품은 최고 수준의 품질과 성능을 충족하도록 설계되었습니다. 당사의 RTP 흑연 캐리어 플레이트도 예외는 아닙니다. 반도체 웨이퍼 처리 요구 사항에 대해 당사가 어떻게 도움을 드릴 수 있는지 자세히 알아보려면 지금 당사에 문의하십시오.

RTP 흑연 캐리어 플레이트의 매개변수

CVD-SIC 코팅의 주요 사양
SiC-CVD 속성
결정 구조	FCC β 단계
밀도	g/cm ³	3.21
경도	비커스 경도	2500
입자 크기	μm	2~10
화학적 순도	%	99.99995
열용량	J·kg-1·K-1	640
승화 온도	℃	2700
쇠약한 힘	MPa(RT 4점)	415
영률	GPA (4pt 굽힘, 1300â)	430
열팽창(C.T.E)	10-6K-1	4.5
열 전도성	(W/mK)	300