실리콘 인젝터

Semicorex Silicon Injector는 폴리실리콘 및 박막 증착을 위한 저압 화학 기상 증착(LPCVD) 시스템에서 가스를 정밀하게 전달하도록 설계된 초고순도 부품입니다. 9N으로 구성 (99.9999999%)고순도 실리콘, 이 미세 관형 주입기는 극한의 공정 조건에서 탁월한 청결도, 화학물질과의 호환성 및 열 안정성을 제공합니다.

반도체 제조가 더 높은 수준의 통합과 더 엄격한 오염 제어로 계속 발전함에 따라 증착 챔버의 모든 가스 공급 구성 요소도 이전보다 더 높은 표준을 충족해야 합니다. Semicorex Silicon Injector는 이러한 유형의 요구 사항을 위해 특별히 개발되었습니다. 즉, 필름 품질이나 웨이퍼 수율에 부정적인 영향을 줄 수 있는 오염을 도입하지 않고 반응 챔버 전체에 안정적이고 균일한 방식으로 기체 물질을 공급합니다.

인젝터는 공정 요구 사항에 따라 단결정 또는 다결정 실리콘으로 제조되며 재료는 금속, 미립자 및 이온 불순물이 낮도록 설계되었습니다. 이는 극미량의 오염이라도 필름 결함이나 장치 고장을 유발할 수 있는 초청정 LPCVD 조건과의 호환성을 제공합니다. 실리콘을 기본 재료로 사용하면 인젝터와 챔버의 실리콘 구성 요소 사이의 재료 불일치가 줄어들어 사용 및 고온 작동 중 입자 생성 위험이나 화학 반응이 크게 낮아집니다.

실리콘 인젝터의 전용 관형 구조를 통해 균일한 웨이퍼 로드에 걸쳐 가스를 제어되고 균등하게 분배할 수 있습니다. 마이크로 엔지니어링된 오리피스와 매끄러운 내부 표면은 용광로의 일관된 필름 두께와 안정적인 증착 속도에 중요한 층류 가스 역학과 함께 재현 가능한 유속을 보장합니다. 실란(SiH₄), 디클로로실란(SiH2Cl2) 또는 기타 반응성 가스이든 인젝터는 고품질 폴리실리콘막 성장에 필요한 신뢰할 수 있는 성능과 정밀도를 제공합니다.

탁월한 열 안정성으로 인해 Semicorex Silicon Injector는 최대 1250°C의 온도를 견딜 수 있으며 고온 LPCVD의 여러 사이클 동안 변형, 균열 또는 뒤틀림의 두려움 없이 제어될 수 있습니다. 또한 산화에 대한 높은 저항성과 화학적 불활성으로 인해 산화, 환원 또는 부식성 대기에서 장기간 작동이 가능하며 유지 관리가 줄어들고 공정 안정성이 향상됩니다.

각 인젝터는 최첨단 CNC 가공 및 연마를 사용하여 제조되어 미크론 미만의 치수 공차와 표면의 매우 매끄러운 마감을 달성합니다. 고품질 표면 마감은 가스 난류를 최소화하여 입자를 거의 또는 전혀 생성하지 않는 동시에 일관되지 않은 열 및 압력 변화에 걸쳐 일관된 흐름 특성을 보장합니다. 정밀 제조는 엄격하게 제어되는 프로세스, 신뢰할 수 있는 결과 재현 및 일관된 장비 성능을 보장합니다.

Semicorex는 맞춤형 길이, 직경 및 노즐 구성으로 제공되는 맞춤형 실리콘 인젝터를 제조합니다. 일회용 반응기 형상 또는 증착 방식에 대한 가스 분산 패턴을 향상시키기 위해 맞춤형 솔루션을 개발할 수 있습니다. 각 인젝터는 최고 수준의 반도체 등급을 제공하기 위해 순도를 검사하고 검증합니다.실리콘 부품.

Semicorex Silicon Injector는 오늘날의 반도체 제조에 필요한 정밀도와 순도를 제공합니다. 9N 초고순도 실리콘, 미크론 수준의 가공 정확도, 높은 열적, 화학적 안정성을 통합하여 LPCVD 폴리실리콘 증착 시 균일한 가스 분포, 낮은 입자 발생 및 탁월한 신뢰성을 제공합니다.