실리콘 웨이퍼 보트

Semicorex는 홈 로드 모양, 홈 톱니 길이, 모양, 기울기 각도 및 총 웨이퍼 적재 용량을 포함한 실리콘 웨이퍼 보트 구조를 맞춤화할 수 있으며 고객 요구 사항에 따라 생산할 수 있습니다. 고온 실리콘 보트는 실리콘 웨이퍼의 접촉 손상을 효과적으로 줄이고 공정 수율을 향상시킬 수 있습니다. 고온 "미끄럼 방지 타워" 설계는 지지 치아 끝 부분에서만 웨이퍼를 지지합니다. 에 비해탄화규소, 실리콘은 상대적으로 경도가 낮아 웨이퍼의 기계적 손상을 줄여 격자 통과율을 향상시키고 생산 비용을 효과적으로 절감합니다. 융합 실리콘 보트는 톱니, 베이스 플레이트, 상판 등 여러 부분이 융합되어 구성됩니다. 이로 인해 생산 비용이 절감됩니다. 부분적인 손상이 발생한 경우 실리콘 보트 전체를 교체하지 않고도 손상된 부분만 교체할 수 있어 사용 중 소유비용을 대폭 절감할 수 있다. 또한 실리콘 보트는 폴리실리콘 증착의 상한이 크므로 PM 장비의 빈도를 효과적으로 줄이고 생산 능력을 향상시킬 수 있습니다.

Semicorex Silicon Wafer Boat는 혁신적인 목적으로 설계된 웨이퍼 캐리어입니다. 이는 1200~1250°C 사이의 온도에서 산화 및 환원 공정을 포함하여 반도체 산업에 사용되는 고온 용광로 처리를 위해 특별히 제작되었습니다. 실리콘 카바이드(SiC) 소재에서는 볼 수 없는 성능 이점을 갖춘 실리콘 웨이퍼 보트는 반도체 제조에 필요한 엄격한 공정과 관련된 이점을 제공합니다. 첫째, 실리콘 소재의 초고순도가 중요합니다. 사실,실리콘 소재9N(99.9999999%) 이상의 초고순도를 달성하여 금속이나 이물질이 웨이퍼 공정을 오염시키지 않도록 보장합니다. 이는 오염으로 인해 성능 신뢰성과 수율이 큰 영향을 받는 최첨단 반도체 장치 제조에 매우 중요합니다. 실리콘 웨이퍼 보트는 산화 및 환원 처리를 위해 매우 높은 온도에 노출된 웨이퍼를 처리하는 최첨단 산업 요구 사항에 적합한 높은 순도의 초청정 환경을 제공합니다.

또 다른 이점은실리콘 소재SiC 소재에 비해 경도가 낮다는 점입니다. SiC 바 또는 보트는 경도와 강도로 잘 알려져 있지만, 그 특성 자체가 웨이퍼 처리 중에 어려움을 초래할 수 있습니다. 고온에서는 웨이퍼가 미세하게 움직입니다. 보트 안에 있는 동안 약간 튕기고, 약간 이동하고, 가장자리가 휘어집니다. 더 단단한 SiC 소재는 이러한 고온 처리 조건에서 웨이퍼와 보트의 특성이 상호 작용하기 때문에 웨이퍼 뒷면에 입자나 스크래치가 발생할 위험이 더 높을 수 있습니다.

실리콘 웨이퍼 보트는 SiC에 비해 상대적으로 부드러운 실리콘의 특성을 활용하여 이러한 우려를 완화합니다. 경도가 감소하면 열 주기 동안 웨이퍼가 보트에 접촉할 때 마찰과 기계적 응력이 줄어듭니다. 결과적으로 파티클 발생 빈도가 줄어들고 뒷면 긁힘 위험이 거의 0으로 줄어듭니다. 또한, 실리콘 웨이퍼 보트는 표면 결함을 최소화함으로써 격자 품질을 직접적으로 향상시키고, 가공된 웨이퍼의 전반적인 품질 평가율을 높여줍니다. 최대 품질 관리로 수율을 향상시키려는 반도체 제조 공장의 경우 이러한 성능 상태는 실리콘 보트를 매력적인 옵션으로 만듭니다.

실리콘은 고온에서 우수한 안정성과 기계적 강도를 제공하므로 보트가 반복되는 용광로 사이클 동안 안정적으로 작동할 수 있습니다. 이 소재는 가열 및 냉각 주기 동안 뒤틀림을 방지하므로 빠른 용광로 주기 동안에도 정확한 웨이퍼 배치 및 위치 지정 공차를 유지합니다. 이러한 열적 견고성은 실행 간 변동을 최소화하면서 대량 생산에 충분히 일관적인 신뢰할 수 있는 공정 결과를 제공합니다. 실리콘 웨이퍼 보트는 일관된 웨이퍼 위치 지정 및 배치를 보장하기 위해 높은 치수 정밀도로 제작되었습니다. 보트는 매끄러운 표면, 긴밀한 기하학적 구조 및 엄격한 공차를 만들기 위해 고급 가공 및 연마를 사용하여 제작되었습니다.