실리콘 쉴드 링

Semicorex Silicon Shield Ring은 에칭 공정에서 중요한 반도체 부품입니다. 주요 기능은 전극을 둘러싸고 과도한 플라즈마 누출을 방지하는 것입니다. 소재순도 9N(99.9999999%)이상의 실드링으로 단결정, 다결정 모두 제작 가능규소, 첨단 반도체 제조 공정과의 안정적인 호환성과 초청정 작업을 보장합니다.

내구성과 비용 효율성은 두 가지 더 중요한 이점입니다. 실드 링은 챔버의 불필요한 부분을 플라즈마로부터 보호함으로써 다른 중요한 구성 요소의 마모를 줄여 유지 관리 노력을 줄이고 전반적인 작동 가동 시간을 늘립니다. 긴 서비스 수명과 적은 빈도의 교체로 인해 반도체 공장의 생산성을 높이고 운영 비용을 절감할 수 있는 비용 효과적인 솔루션입니다.

실리콘의 열적, 전기적 특성은 Etching Shield Ring의 성능을 더욱 뒷받침합니다. 높은 공정 온도에 대한 내성은 장기간 플라즈마 노출 동안 구조적 무결성을 제공하며 전기 전도성을 통해 구성 요소가 전극 시스템의 요소로 적절하게 작동할 수 있습니다. 이러한 애플리케이션은 함께 플라즈마 감금을 강화하고 에너지 균일성을 향상시켜 웨이퍼 전반에 걸쳐 반복 가능한 식각 프로파일을 허용합니다.

기계적 내성은 Silicon Etching Shield Ring의 또 다른 주목할만한 특징입니다. 엄격한 공차로 제조되어 전극 주위의 정확한 위치 지정을 보장하고 챔버의 간격과 기하학적 구조를 유지합니다. 이러한 기계적 정밀도는 개별 실행 간의 변동성을 줄이기 위해 반복 가능한 공정 조건을 생성하고 대량 반도체 생산을 가능하게 합니다. 재료 자체는 플라즈마 환경과의 호환성이 뛰어납니다. 따라서 구조를 침식하면 일반적으로 긴 서비스 수명과 공정 성능의 안정성을 제공할 수 있습니다.

내구성과 비용 효율성은 두 가지 더 중요한 이점입니다. 실드 링은 챔버의 불필요한 부분을 플라즈마로부터 보호함으로써 다른 중요한 구성 요소의 마모를 줄여 유지 관리 노력을 줄이고 전반적인 작동 가동 시간을 늘립니다. 긴 서비스 수명과 적은 빈도의 교체로 인해 반도체 공장의 생산성을 높이고 운영 비용을 절감할 수 있는 비용 효과적인 솔루션입니다.

그만큼규소쉴드 링은 제조하는 다양한 플라즈마 에칭 챔버를 수용하는 동시에 최적의 맞춤을 달성하기 위해 다양한 크기와 형상으로 제공되므로 각 도구 구성 및 프로세스 사양에 맞게 맞춤화할 수도 있습니다. 또한 표면 처리 및 연마를 활용하여 초청정 제조 표준을 위한 입자 생성을 더욱 줄일 수 있습니다.