확산로 튜브

Semicorex Diffusion Furnace Tube는 반도체 제조 장비 내의 중요한 구성 요소로, 반도체 제조 공정에 필수적인 정확하고 제어된 반응을 촉진하도록 특별히 설계되었습니다. 반도체 퍼니스의 반응 구역 내의 주요 용기인 확산로 튜브는 생산된 반도체 장치의 무결성과 품질을 보장하는 데 중추적인 역할을 합니다. Semicorex는 경쟁력 있는 가격으로 고품질의 제품을 제공하기 위해 최선을 다하고 있으며, 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대하고 있습니다.

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제품 설명

확산로 튜브는 일반적으로 고순도 석영 또는 SiC로 만들어지며, 둘 다 뛰어난 열 안정성과 화학 반응에 대한 저항성을 나타냅니다. 이는 확산로 튜브가 처리 중인 반도체 재료에 불순물을 도입해서는 안 되기 때문에 중요합니다. 아주 작은 불순물이라도 제조된 반도체 장치의 성능과 신뢰성에 심각한 해로운 영향을 미칠 수 있습니다.

확산로 튜브를 구성하는 데 사용되는 재료는 처리 중 반도체 웨이퍼의 오염을 방지하기 위해 순도가 높은 재료를 선택합니다. 확산로 튜브는 구조적 무결성을 변형하거나 손상시키지 않고 반도체 처리 중에 발생하는 극한의 온도를 견뎌냅니다. 이는 장기간 작동 시 일관되고 안정적인 성능을 보장합니다. 열 안정성 외에도 확산로 튜브는 반도체 공정에 사용되는 화학 물질 및 가스의 부식 효과에 대한 저항성을 나타냅니다. 이는 시간이 지남에 따라 튜브의 성능 저하를 방지하고 수명을 보장합니다.

일부 확산로 튜브에는 특수 재료로 제작된 라이너가 있어 성능을 더욱 향상시키거나 오염이나 화학 반응에 대한 추가적인 보호 기능을 제공할 수 있습니다. 이러한 라이너는 튜브 재료의 특성과 반도체 제조 공정의 특정 요구 사항을 보완하기 위해 신중하게 선택되었습니다.