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웨이퍼 프로세스 히터
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웨이퍼 프로세스 히터

Semicorex는 중국의 실리콘 카바이드 코팅 흑연 서셉터의 대규모 제조업체이자 공급업체입니다. 우리는 실리콘 카바이드 레이어 및 에피택시 반도체와 같은 반도체 산업에 중점을 둡니다. 당사의 웨이퍼 프로세스 히터는 가격면에서 유리하며 많은 유럽 및 미국 시장을 커버합니다. 우리는 당신의 장기적인 파트너가 되기를 기대합니다.

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제품 설명

Semicorex Wafer Process Heater는 SiC(Silicon Carbide Coating) 흑연으로 제작되며 코팅은 특정 등급의 고밀도 흑연에 CVD 방법으로 도포되어 불활성 분위기에서 3000 °C 이상의 고온 Furnace에서 작동할 수 있으며, 진공에서 2200°C.
Wafer Process Heater 소재의 특수한 특성과 낮은 질량 덕분에 빠른 가열 속도, 균일한 온도 분포 및 탁월한 제어 정밀도가 가능합니다. 다른 재료와 비교할 때 실리콘 카바이드의 표면은 빠른 온도 변화에서도 낮은 열 팽창으로 인해 평평한 상태를 유지합니다. 핫 플레이트는 반도체 처리 시스템의 까다로운 공정에 매우 적합합니다.
Semicorex는 고객에게 고품질의 비용 효율적인 제품을 제공하는 데 중점을 둡니다. 당사의 Wafer Process Heater는 가격 이점이 있으며 많은 유럽 및 미국 시장에 수출됩니다. 우리는 일관된 품질의 제품과 탁월한 고객 서비스를 제공하는 장기적인 파트너가 되는 것을 목표로 합니다.


웨이퍼 프로세스 히터의 매개변수

기술 사양

VET-M3

부피 밀도(g/cm3)

≤1.85

회분 함량(PPM)

≤500

쇼어 경도

≤45

비저항(μ.Ω.m)

¤12

굽힘 강도(Mpa)

≤40

압축 강도(Mpa)

≤70

최대 입자 크기(μm)

43

열팽창 계수 Mm/°C

≥4.4*10-6


웨이퍼 프로세스 히터의 특징

- 서비스 수명을 향상시키는 CVD SiC 코팅.
- 고온 저항, 내 부식성, 긴 수명, 웨이퍼 품질 및 수율을 향상시킬 수 있습니다.
- 열팽창 계수가 매우 낮고 내열성이 높으며 내마모성이 우수하고 절연성이 우수하며 화학적 안정성이 우수하고 보라색(적색)에 가까운 가시광선 투과성을 가지고 있습니다.

우리는 산화 방지 및 수명이 긴 흑연 도가니, 흑연 몰드 및 흑연 히터의 모든 부품을 제공할 수 있습니다.





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