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반도체 장비용 가스 흡입 링

반도체 장비용 가스 흡입 링

Semicorex는 중국 내 실리콘 카바이드 코팅 흑연 서셉터의 대규모 제조업체이자 공급업체입니다. 탄화규소층, 에피택시 반도체 등 반도체 산업에 주력하고 있습니다. 당사의 반도체 장비용 가스 흡입 링은 가격 경쟁력이 뛰어나며 많은 유럽 및 미국 시장을 포괄합니다. 우리는 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대하고 있습니다.

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제품 설명

반도체 장비용 Semicorex 가스 흡입 링은 SiC 코팅으로, 조밀하고 내마모성이 뛰어난 탄화규소(SiC) 코팅입니다. 내식성과 내열성이 뛰어나며 열전도율도 우수합니다. 우리는 화학 기상 증착(CVD) 공정을 사용하여 흑연 위에 SiC를 얇은 층으로 도포합니다.

당사의 반도체 장비용 가스 유입 링은 최상의 층류 가스 흐름 패턴을 달성하도록 설계되어 열 프로파일의 균일성을 보장합니다. 이는 오염이나 불순물 확산을 방지하여 웨이퍼 칩의 고품질 에피택셜 성장을 보장합니다.

반도체 장비용 가스 흡입 링에 대해 자세히 알아보려면 지금 문의하세요.


반도체 장비용 가스 유입 링 매개변수

CVD-SIC 코팅 주요 사양

SiC-CVD 속성

결정 구조

FCC β상

밀도

g/cm ³

3.21

경도

비커스 경도

2500

입자 크기

μm

2~10

화학적 순도

%

99.99995

열용량

Jkg-1 K-1

640

승화 온도

2700

굽힘 강도

MPa(RT 4점)

415

영률

Gpa (4pt 굴곡, 1300℃)

430

열팽창(C.T.E)

10-6K-1

4.5

열전도율

(W/mK)

300


반도체 장비용 가스 유입 링의 특징

● 고순도 SiC 코팅 흑연

● 우수한 내열성 및 열균일성

● 매끄러운 표면을 위해 코팅된 미세한 SiC 크리스탈

● 화학세척에 강한 내구성

● 재질은 Crack 및 Delamination이 발생하지 않도록 설계되었습니다.




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