수평 챔버 용광로 SIC 보트

Semicorex 수평 챔버 SIC 보트는 수평 챔버 용광로에서 고온 열 처리를받는 동안 웨이퍼 또는 기판을 보유하고 운반하는 고도로 엔지니어링되는 부품입니다. 웨이퍼 보트는 고순도 SIC 본드로 만들어졌습니다 실리콘 카바이드 (sic)반도체, 태양 광 발전 및 고급 세라믹 프로세스에서 요구되는 강도, 열 안정성 및 높은 화학 저항성의 독특한 조합을 제공합니다. 웨이퍼 보트는 또한 웨이퍼를 제자리에 고정시키는 강성 구조로서 작용하며, 치수 안정성 및 웨이퍼의 정밀도는 극한의 공정 온도에 대한 연장 된 노출로 인해 손실되지 않을 것이다.

실리콘 카바이드의 우수한 특성은 수평 챔버 용광로 SIC 보트에 석영 또는 알루미나와 같은 웨이퍼 보트의 전형적인 재료와 비교하여 우수한 성능 이점을 제공합니다. 그들은 가열 및 냉각 속도 또는 열 사이클의 극한 속도에 관계없이 높은 융점, 열 충격 저항 및 기계적 강도로 인해 드문 단기 가열 및 냉각주기를 더 잘 견딜 수 있습니다. 수평 용광로는 전적으로 웨이퍼의 위치의 일관성과 공정 조건의 노출에 의존하기 때문에, 웨이퍼의 적절한 정렬은 일관된 공정 수율과 반복성을 제공합니다. 낮은 열 팽창 계수는 보트가 수명을 왜곡하지 않고 웨이퍼의 모양과 간격을 제공한다는 것을 의미합니다.

재결정 화 된 SIC의 미세하고 밀집된 구조는 공정 가스 및 부산물에 의한 산화, 부식 및 오염에 대한 현저한 저항성을 제공합니다. 이것은 보트가 특히 확산, 산화, LPCVD 및 어닐링과 같은 공격적인 대기의 공정에 특히 유리하게 만듭니다. SIC의 높은 화학적 불활성은 웨이퍼 표면과의 반응을 피하고, 따라서 생성물 순도를 보존하고 퍼니스에서 미립자 생성을 최소화합니다. SIC 보트는 엄격한 청결 요구를 충족시켜야하는 제조업체가 클리너 가공 환경을 제공하고 웨이퍼 품질을 향상시킬 수 있습니다.

이 보트는 정밀 가공 및 형성 기술을 사용하여 다양한 복잡한 형상 및 부분 별 치수로 생산할 수 있습니다. 설계는 일반적으로 여러 병렬 슬롯/그루브를 사용하여 웨이퍼를 수평 방향으로 단단히 고정시키고 전체 웨이퍼 표면을 열 조건에 균일하게 노출시킵니다. 슬롯 투 슬롯 간격 및 각도는 또한 처리를 위해 온도 균일 성을 달성하면서 가공 효과 동안 150mm, 200mm 또는 300mm와 같은 다른 직경의 웨이퍼에 맞게 최적화 될 수 있으며, 가공 효과 동안 직접 공기 흐름.

수평 챔버 용광로 SIC 보트는 표준 출발에서 설계 될 수있을뿐만 아니라 자동 웨이퍼 로더와 함께 작동하도록 설계 될 수 있으므로 최신 고 처리량 생산 라인에 완벽하게 통합됩니다. 강력한 디자인은 또한 보트가 취급 중에 칩 또는 파손 가능성을 줄이고 가동 중지 시간 및 교체 비용을 줄입니다.

열전도도실리콘 카바이드웨이퍼와 용광로 환경 사이의 효율적인 열 전달을 용이하게하는 또 다른 주요 이점을 나타냅니다. 장점은 제조업체가보다 균일 한 처리 조건을 달성하고주기 시간을 단축시켜 생산 효율성을 높일 수 있다는 것입니다. SIC 보트는 반도체 웨이퍼 제조, 태양 전지 제조 또는 높은 온도에서의 기타 고급 재료 가공에 사용되는지 일관되고 반복 가능한 결과를 제공합니다.

요약하면, 수평 챔버 용광로 SIC 보트는 고성능, 오래 지속 및 오염 방지 웨이퍼 운반체를 갖춘 웨이퍼를 생산하려는 제조업체의 핵심 구성 요소입니다. 그것은 수평 용광로 응용 분야에서 불평등 한 기계적 강도, 열 안정성 및 화학적 불활성을 가지고 있습니다. 실리콘 카바이드 보트를 선택함으로써 운영자는 더 나은 프로세스 제어를 활용하고 수율이 높고 유지 보수로 인해 운영 중단을 최소화 할 수 있습니다. 전반적으로보다 효율적이고 비용 효율적인 생산을 제공합니다.