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단결정 실리콘에서 비소 도핑과 인 도핑의 차이점은 무엇입니까?

둘 다 N 형 반도체이지만 단결정 실리콘에서 비소와 인 도핑의 차이점은 무엇입니까? 단결정 실리콘에서, 비소 (AS) 및 인 (P)은 일반적으로 N- 타입 도펀트 (자유 전자를 제공하는 펜타 발린 요소) 모두에 사용된다. 그러나 원자 구조, 물리적 특성 및 처리 특성의 차이로 인해 도핑 효과 및 응용 시나리오가 크게 다릅니다.

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반도체 제조의 주요 세라믹 성분

반도체 장비는 챔버와 챔버로 구성되며 대부분의 세라믹은 웨이퍼에 가까운 챔버에 사용됩니다. 코어 장비의 공동에 널리 사용되는 중요한 부품 인 세라믹 부품은 알루미나 세라믹, 알루미늄 질화물 세라믹 및 실리콘 카바이드 세라믹과 같은 고급 세라믹 재료를 사용하여 정밀 처리를 통해 제조 된 반도체 장비 구성 요소입니다.

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