다공성 척

스테인레스 스틸 베이스와 미세다공성 탄화규소(SiC) 세라믹 플레이트를 갖춘 Semicorex 다공성 척은 반도체, 광전자공학 및 고급 제조 응용 분야의 정밀 기판 처리를 위해 설계된 고성능 진공 척 솔루션입니다. 스테인리스강의 구조적 강도와 미세 다공성 SiC 세라믹의 뛰어난 기능적 특성을 결합한 이 복합 척은 까다로운 공정 조건에서 안정적인 진공 흡착, 탁월한 열 성능 및 장기적인 신뢰성을 제공합니다.

다공성 척의 구성 요소

다공성 척의 핵심에는 미세 다공성 SiC 세라믹 플레이트가 있으며, 척 표면 전체에 걸쳐 균일한 진공 전달을 가능하게 하는 균일하게 분포된 기공 구조로 설계되었습니다. 이 디자인은 표면 홈이나 드릴링된 진공 구멍이 필요하지 않으므로 균일한 유지력을 제공하고 기판에 국부적인 응력 집중을 최소화합니다. 그 결과, 웨이퍼의 뒤틀림, 미끄러짐, 가장자리 손상이 크게 감소하여 얇은 웨이퍼 및 고정밀 공정에 이상적인 척이 됩니다.

스테인리스강 베이스는 견고한 기계적 지지를 제공하고 공정 장비와의 안전한 통합을 보장합니다. 높은 구조적 강도와 기계 가공성을 통해 진공 채널, 장착 인터페이스 및 정렬 기능을 정밀하게 제작할 수 있습니다. 또한 스테인리스 스틸 베이스는 기계적 피로 및 변형에 대한 저항력이 뛰어나 장기간 작동에도 안정적인 척 성능을 보장합니다. 견고한 금속 베이스와 정밀 세라믹 상판의 조합으로 강도와 정확성 모두에 최적화된 균형 잡힌 구조를 만들어냅니다.

SiC 세라믹은 선택된 재료입니다.

실리콘 카바이드 세라믹다공성 판재로 사용되는 이유는 물리적, 화학적 특성이 뛰어나기 때문입니다. 미세 다공성 SiC 플레이트는 높은 강성, 우수한 내마모성 및 우수한 열 전도성을 나타내어 온도 사이클링 중에 빠른 열 방출과 안정적인 성능을 제공합니다. 낮은 열팽창 계수는 국부적인 가열, 냉각 또는 플라즈마 노출과 관련된 공정에서도 표면 평탄도와 치수 안정성을 유지하는 데 도움이 됩니다.

내화학성은 이 제품의 또 다른 중요한 장점입니다.다공성 SiC 세라믹그릇. 이 제품은 본질적으로 반도체 제조에서 일반적으로 발생하는 부식성 가스, 산, 알칼리 및 플라즈마 환경에 대한 저항력이 있습니다. 이러한 화학적 불활성은 표면 저하 및 입자 생성을 방지하고 클린룸 요구 사항을 지원하며 더 높은 공정 수율 및 장비 신뢰성에 기여합니다.

효과적인 웨이퍼 핸들링을 위해서는 표면 품질과 정밀도가 필수적입니다. 미세 다공성 SiC 세라믹 플레이트는 정밀하게 랩핑되고 연마되어 탁월한 평탄도, 평행도 및 표면 마감을 얻을 수 있습니다. 또한 홈이 없는 다공성 표면은 입자 트래핑을 줄이고 청소 및 유지 관리를 단순화하여 리소그래피, 에칭, 증착 및 검사와 같이 오염에 민감한 공정에 척을 적합하게 만듭니다.

스테인리스 스틸 베이스와 미세 다공성 SiC 세라믹 플레이트를 갖춘 다공성 척은 실리콘 웨이퍼, 탄화규소 웨이퍼, 사파이어, 질화갈륨(GaN) 및 유리 기판을 포함한 광범위한 기판과 호환됩니다. 척 직경, 두께, 다공성 수준, 진공 인터페이스 설계 및 장착 구성에 대한 사용자 정의 옵션을 사용할 수 있으므로 다양한 OEM 도구 및 고객별 프로세스 플랫폼에 원활하게 통합할 수 있습니다.

운영 관점에서 볼 때 이 복합 다공성 척은 일관된 웨이퍼 위치 지정과 균일한 진공 유지를 보장하여 공정 안정성과 반복성을 향상시킵니다. 내구성이 뛰어난 구조로 유지 관리 빈도가 줄어들고 서비스 수명이 연장되어 총 소유 비용이 절감됩니다. 스테인리스 스틸과 미세 다공성 SiC 세라믹의 장점을 결합한 이 다공성 척은 정확성, 청결성 및 장기 성능이 중요한 고급 제조 환경에 신뢰할 수 있는 고정밀 솔루션을 제공합니다.