다공성 sic 플레이트

Semicorex porous sic plate는 고급 반도체 및 정밀 제조 응용 프로그램을 위해 설계된 고성능 세라믹 재료입니다. 미세하게 제어 된 다공성 구조로 설계된이 플레이트는 탁월한 기계적 강도, 열 안정성 및 화학 저항을 제공하여 사용하기에 이상적인 선택입니다.진공 척반도체 처리에서.

정밀 소결 및 기공 형성에 의해 처리 된, 다공성 SIC 플레이트는 균일 한 다공성 및 최적화 된 공기 투과성을 가지므로 얇은 웨이퍼, 유리 패널 및 기타 섬세한 기판의 안전하고 안정적인 흡착을 보장한다. 신중하게 제어 된 기공 크기 분포는 최후의 원자가 될 때까지 구조 성분을 함께 유지하면서 효과적인 진공 흡입을 허용하며, 추가 처리를위한 재료의 변형 또는 손상을 거의 방지합니다 : 웨이퍼.

우수한 열전도율은 다공성 SIC 플레이트를 표면을 가로 지르는 온도의 균일 한 분포로 빠른 열 소산을위한 최고의 후보 중 하나입니다. 이것은 열 조건 내에서 안정성을 유지하기위한 여러 종류의 반도체 제조 공정에서 중요 해지며, 이는 제품의 수율 및 품질과 직접 관련이 있습니다. 또한, 실리콘 카바이드는 내마모성과 비교적 높은 수준의 경도를 나타냅니다. 따라서 표면 마모와 오염이 많은 연장 된 사용에 비해 지연되기 때문에 플레이트에 더 긴 수명을줍니다.

화학적 불활성은 다공성 SIC 플레이트의 또 다른 중요한 특성입니다. 산, 알칼리 및 혈장 노출에 대한 강한 저항성을 나타내므로 에칭, 증착 및 화학적 처리 챔버와 같은 반도체 제조 내의 가혹한 환경에 적합합니다. SIC의 비 반응성 특성은 원치 않는 화학적 상호 작용을 방지하여 가공 된 재료의 순도를 보존하고 생산 신뢰성을 향상시킵니다.

또한, 다공성 SIC의 가벼운 특성은 강력한 기계적 특성과 결합하여 정밀 기계로의 손쉬운 처리 및 통합을 용이하게합니다. 낮은 열 팽창 계수는 극한의 온도 변동에서도 치수 안정성을 보장하여 작동 중에 뒤틀림 또는 오정렬의 위험을 최소화합니다.

다공성 SIC 플레이트는 다공성, 두께 및 표면 마감의 변화를 포함하여 특정 응용 프로그램 요구 사항을 충족하도록 사용자 정의 할 수 있습니다. 고급 가공 및 연마 기술을 적용하여 최소한의 거칠기가있는 울트라 플랫 표면을 달성하여 진공 척 재료로서의 성능을 더욱 향상시킬 수 있습니다.

반음 다공성 실리콘 카바이드 플레이트는 고강도, 우수한 열 및 화학적 안정성 및 우수한 내마모성을 조합하는 고도로 전문화 된 세라믹 성분입니다. 고유 한 다공성 구조는 효과적인 진공 흡입을 가능하게하여 반도체 및 정밀 산업에서 안전한 웨이퍼 처리를 보장합니다. 결과적으로, 성능, 내구성 및 신뢰성이 가장 중요한 고정밀 애플리케이션의 필수 자료입니다.