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LPE 에피택셜 성장을 위한 SiC 코팅 배럴 서셉터

LPE 에피택셜 성장을 위한 SiC 코팅 배럴 서셉터

LPE 에피택셜 성장을 위한 Semicorex SiC 코팅 배럴 서셉터는 장기간에 걸쳐 일관되고 안정적인 성능을 제공하도록 설계된 고성능 제품입니다. 균일한 열 프로필, 층류 가스 흐름 패턴 및 오염 방지 기능을 통해 웨이퍼 칩의 고품질 에피택셜 레이어를 성장시키는 데 이상적인 선택입니다. 맞춤화 가능성과 비용 효율성으로 인해 시장에서 경쟁력이 매우 높은 제품입니다.

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배럴 수신기 Epi 시스템

배럴 수신기 Epi 시스템

Semicorex Barrel Susceptor Epi System은 우수한 코팅 접착력, 고순도, 고온 산화 저항성을 제공하는 고품질 제품입니다. 균일한 열 프로필, 층류 가스 흐름 패턴 및 오염 방지 기능을 통해 웨이퍼 칩의 에픽시얼 레이어 성장에 이상적인 선택입니다. 비용 효율성과 사용자 정의 가능성으로 인해 시장에서 경쟁력이 매우 높은 제품입니다.

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액상 에피택시(LPE) 반응기 시스템

액상 에피택시(LPE) 반응기 시스템

Semicorex LPE(액상 에피택시) 반응기 시스템은 뛰어난 열 성능, 균일한 열 프로파일 및 우수한 코팅 접착력을 제공하는 혁신적인 제품입니다. 고순도, 고온 내산화성 및 내식성은 반도체 산업에 사용하기에 이상적인 선택입니다. 맞춤형 옵션과 비용 효율성으로 인해 시장에서 경쟁력이 매우 높은 제품입니다.

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에피택셜 반응기 챔버용 SiC 코팅 서셉터 배럴

에피택셜 반응기 챔버용 SiC 코팅 서셉터 배럴

Semicorex의 에피택셜 반응기 챔버용 SiC 코팅 서셉터 배럴은 우수한 열 분포 및 열 전도성 특성을 특징으로 하는 반도체 제조 공정을 위한 매우 안정적인 솔루션입니다. 또한 부식, 산화 및 고온에 대한 저항력이 매우 높습니다.

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EPI 3 1/4

EPI 3 1/4" 배럴 수신기

Semicorex SiC 코팅 EPI 3 1/4" 배럴 서셉터는 우수한 열 안정성과 화학적 공격에 대한 저항성을 제공하는 동시에 흑연 기판은 우수한 열 전달 특성을 제공합니다.

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