RSiC 플레이트

Semicorex RSiC 플레이트는 까다로운 열, 기계 및 화학적 환경을 위해 설계된 고성능 재결정 탄화규소 세라믹 평판입니다. 고온 재결정 공정을 통해 제조된 RSiC(Recrystallized Silicon Carbide)는 탁월한 순도, 우수한 열 안정성, 뛰어난 내식성 및 내마모성을 나타냅니다. 이러한 특성으로 인해 RSiC 플레이트는 극한 조건에서 안정적인 성능이 필요한 응용 분야에 이상적인 솔루션입니다.

재결정화된 탄화규소는 소결 첨가제를 사용하지 않고 서로 맞물린 SiC 입자로 구성된 독특한 미세 구조가 특징입니다. 이 무첨가 구조는 RSiC 플레이트에 뛰어난 고온 강도 유지력과 우수한 열충격 저항성을 제공합니다. 기존의 세라믹 소재와는 다르게RSiC1600°C를 초과하는 온도에서도 기계적 무결성과 치수 안정성을 유지하므로 고온 용광로, 열처리 장비 및 첨단 산업 시스템에 특히 적합합니다.

1. 온도에 따른 탁월한 강도

유리상이나 금속 실리콘 바인더가 없기 때문에 RSiC에는 "크리프"나 "처짐"이 발생하지 않습니다. 산화 대기(및 불활성 환경에서는 더 높은 온도)의 1,600°C ~ 1,650°C에 이르는 높은 온도에서도 당사 플레이트는 원래 모양과 하중 지지력을 유지합니다. 따라서 고열 가마에서 고부하 일괄 처리를 위한 이상적인 선택입니다.

2. 타의 추종을 불허하는 열충격 저항

열 순환은 대부분의 세라믹 판 고장의 주요 원인입니다. RSiC는 독특한 다공성 구조와 높은 열 전도성(>30W/m·K)을 갖고 있어 밀도가 높은 세라믹보다 훨씬 효율적으로 열 응력을 흡수하고 분산시킬 수 있습니다. 우리의 플레이트는 알루미나나 석영이 즉시 깨질 수 있는 급속한 가열 및 냉각 주기를 견딜 수 있습니다.

3. 민감한 공정을 위한 높은 순도

일반적으로 SiC 함량이 99%를 초과하는 RSiC 플레이트는 금속 오염을 최소화해야 하는 응용 분야에 탁월한 선택입니다. 이는 고순도 전자 세라믹, 분말 야금 및 특수 반도체 부품 생산에 널리 사용됩니다.

전략적 애플리케이션

당사의 RSiC 플레이트는 여러 산업 분야에서 "미션 크리티컬" 역할을 위해 설계되었습니다.

테크니컬 세라믹용 가마 가구: 제로 휨이 요구되는 MLCC, 압전소자 및 고전압 절연체 소성용 세터 플레이트로 사용됩니다.

반도체 가공: 확산 및 어닐링로에서 고순도 열 차폐 또는 지지판 역할을 합니다.

태양 에너지: 태양광 등급 실리콘 부품의 소결 및 고효율 셀 처리에 활용됩니다.

배터리 재료: 화학적 순도가 가장 중요한 음극 재료의 고온 하소에 이상적입니다.