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반도체 웨이퍼 척

반도체 웨이퍼 척

Semicorex의 고급 고순도 탄화규소 코팅 부품은 웨이퍼 처리 공정의 극한 환경을 견딜 수 있도록 제작되었습니다. 우리의 반도체 웨이퍼 척은 좋은 가격 이점을 가지고 있으며 많은 유럽 및 미국 시장을 커버합니다. 우리는 중국에서 당신의 장기적인 파트너가 되기를 기대합니다.

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제품 설명

Semicorex 초평면 반도체 웨이퍼 척은 웨이퍼 핸들링 공정에 사용되는 고순도 SiC 코팅입니다. MOCVD 장비에 의한 반도체 Wafer Chuck 화합물 성장은 내열성과 내식성이 높아 극한 환경에서도 안정성이 뛰어나고 반도체 웨이퍼 공정의 수율 관리를 향상시킵니다. 낮은 표면 접촉 구성은 민감한 응용 분야에서 뒷면 입자의 위험을 최소화합니다.


반도체 웨이퍼 척의 매개변수

CVD-SIC 코팅의 주요 사양

SiC-CVD 속성

결정 구조

FCC β 단계

밀도

g/cm ³

3.21

경도

비커스 경도

2500

입자 크기

μm

2~10

화학적 순도

%

99.99995

열용량

J·kg-1·K-1

640

승화 온도

2700

쇠약한 힘

MPa(RT 4점)

415

영률

GPA (4pt 굽힘, 1300â)

430

열팽창(C.T.E)

10-6K-1

4.5

열 전도성

(W/mK)

300


반도체 웨이퍼 척의 특징

- CVD 실리콘 카바이드 코팅으로 서비스 수명을 향상시킵니다.

- 울트라 플랫 기능

- 높은 강성

- 낮은 열팽창

- 극도의 내마모성




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