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반도체 웨이퍼 척

반도체 웨이퍼 척

Semicorex 고급 고순도 실리콘 카바이드 코팅 부품은 웨이퍼 처리 공정의 극한 환경을 견딜 수 있도록 제작되었습니다. 당사의 반도체 웨이퍼 척은 가격 경쟁력이 뛰어나며 많은 유럽 및 미국 시장을 포괄합니다. 우리는 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대하고 있습니다.

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제품 설명

Semicorex Ultra-Flat Semiconductor Wafer Chuck은 웨이퍼 핸들링 공정에 사용되는 고순도 SiC 코팅 제품입니다. MOCVD 장비를 이용한 반도체 웨이퍼 척 복합 성장은 내열성 및 내식성이 뛰어나 극한 환경에서도 안정성이 뛰어나며, 반도체 웨이퍼 가공 수율 관리를 향상시킵니다. 낮은 표면 접촉 구성은 민감한 응용 분야에서 뒷면 입자의 위험을 최소화합니다.


반도체 웨이퍼 척의 매개변수

CVD-SIC 코팅 주요 사양

SiC-CVD 속성

결정 구조

FCC β상

밀도

g/cm ³

3.21

경도

비커스 경도

2500

입자 크기

μm

2~10

화학적 순도

%

99.99995

열용량

Jkg-1 K-1

640

승화 온도

2700

굽힘 강도

MPa(RT 4점)

415

영률

Gpa (4pt 굴곡, 1300℃)

430

열팽창(C.T.E)

10-6K-1

4.5

열전도율

(W/mK)

300


반도체 웨이퍼 척의 특징

- CVD 실리콘 카바이드 코팅으로 수명을 향상시킵니다.

- 울트라 플랫 기능

- 높은 강성

- 낮은 열팽창

- 극도의 내마모성




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