SiC 세라믹 웨이퍼 보트

고온 및 부식이 심한 작동 조건에서 공정 안정성과 웨이퍼 수율을 보장하려면 신뢰할 수 있고 내구성이 뛰어난 웨이퍼 보트를 선택하는 것이 중요합니다. 세미코렉스SiC 세라믹웨이퍼 보트는 고집적도, 높은 안정성, 고온 저항, 내마모성 및 긴 서비스 수명을 포함한 다양한 장점을 처리함으로써 이러한 목적에 이상적인 선택입니다.

프리미엄 원료 선택

세미코렉스의 품질관리는SiC 세라믹 웨이퍼 보트엄격한 원료 선택부터 시작됩니다. Semicorex SiC 세라믹 웨이퍼 보트는 고온 소결을 통해 고순도 반도체 수준의 탄화규소 분말로 만들어집니다. 프리미엄 원자재 덕분에 다음과 같은 뛰어난 성능을 제공합니다.

1. 초고순도, 낮은 금속 불순물 오염.

2. 조밀한 재료 구조로 파티클 쉐딩으로 인한 웨이퍼 오염을 줄입니다.

3. 플라즈마, 강산, 알칼리에 대한 내식성이 우수합니다.

4. 높은 경도와 기계적 강도, 마모 및 긁힘 방지.

5. 열 안정성이 뛰어나 1250°C에서도 변형이나 크리프가 발생하지 않습니다.

6. 내열충격성이 우수하여 급격한 온도변화에 따른 열응력을 줄여줍니다.

사려 깊은 맞춤형 디자인

Semicorex SiC 세라믹 웨이퍼 보트는 TEL, ASM 및 Kokusai Electric과 같은 업계의 많은 주요 용광로 OEM과 잘 어울립니다. Semicorex는 웨이퍼 보트 치수, 슬롯 피치, 슬롯 깊이, 슬롯 프로파일(V자형 또는 U자형) 및 해당 각도의 사용자 정의를 지원하여 소중한 고객을 위한 맞춤형 엔지니어링 솔루션을 제공하여 장비 및 처리 요구 사항과 완벽하게 호환되도록 합니다.

정밀 가공 정확도

고급 가공 장비와 성숙한 처리 기술을 바탕으로 Semicorex는 SiC 세라믹 웨이퍼 보트의 치수와 공차를 엄격하게 제어할 수 있습니다. 이러한 고정밀 치수 제어는 작동 중에 반도체 웨이퍼가 단단히 위치하도록 보장하여 미끄러짐이나 기울어짐으로 인한 웨이퍼 손상을 효과적으로 방지합니다. 정밀 가공 후 SiC 세라믹 웨이퍼 보트의 균일한 간격의 슬롯은 산화, 확산 및 CVD 공정 중에 각 웨이퍼가 균일하게 가열되고 반응하도록 보장하여 공정 일관성과 반도체 칩 수율을 향상시키는 데 크게 기여합니다.