SiC 코팅 흑연 트레이

SiC 코팅 흑연 트레이는 실리콘 에피택셜 성장 과정에서 Si 기판에 정밀한 온도 제어와 안정적인 지지를 제공하는 최첨단 반도체 부품입니다. 세미코렉스는 항상 고객의 요구를 최우선으로 생각하여 고품질 반도체 생산에 필요한 핵심 부품 솔루션을 고객에게 제공합니다.

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제품 설명

에피텍셜 장비의 주요 구성요소로서,SiC 코팅 흑연 트레이, 는 에피택시층 성장의 생산 효율성, 균일성 및 불량률에 직접적인 영향을 미칩니다.

흑연 정제, 정밀 가공 및 세척 처리를 통해 흑연 기판 표면은 탁월한 평탄도와 매끄러움을 달성하여 입자 오염 위험을 성공적으로 피할 수 있습니다. 화학 기상 증착을 통해 흑연 기판의 표면은 반응성 가스와 화학 반응을 거쳐 조밀하고 기공이 없으며 균일하게 두꺼운 탄화규소(SiC) 코팅을 생성합니다. 기판 준비부터 코팅 처리까지 전 생산 공정을 클래스 100 클린룸에서 진행해 반도체에 적합한 청정도 기준을 만족한다.

고순도, 저불순물 흑연과 SiC 소재를 조합한 SiC 코팅 흑연 트레이는 열전도율이 우수하고 열팽창계수가 낮습니다. 이는 SiC 코팅 흑연 트레이가 신속하고 균일하게 열을 전달하여 에피택시층의 성장 품질을 향상시킬 뿐만 아니라, 열 응력으로 인한 코팅 벗겨짐이나 균열 위험을 효과적으로 줄여줍니다. 또한, 균일하고 치밀한 SiC 코팅은 고온, 산화, 부식에 강해 고온 및 부식성 가스 조건에서도 장기간 안정적인 작동을 보장합니다.

SiC 코팅 흑연 트레이는 MOCVD(금속-유기 화학 기상 증착) 장비와의 호환성이 높습니다. 다양한 공정 매개변수 및 장비 요구 사항에 맞게 크기가 세심하게 조정되고 설계되었습니다. Semicorex는 SiC 코팅 흑연 트레이의 다양한 크기, 코팅 두께 및 표면 거칠기에 대한 요구 사항을 정확하게 충족하기 위해 소중한 고객에게 전문적인 맞춤형 서비스 제공을 항상 고집합니다.