SiC 포커스 링

Semicorex 고급 고순도 SiC 포커스 링은 플라즈마 식각(또는 건식 식각) 챔버의 극한 환경을 견딜 수 있도록 제작되었습니다. 탄화규소층, 에피택시 반도체 등 반도체 산업에 주력하고 있습니다. 당사의 제품은 가격 경쟁력이 뛰어나며 유럽 및 미국 시장의 많은 부분을 포괄합니다. 우리는 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대하고 있습니다.

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제품 설명

Semicorex는 RTA, RTP 또는 혹독한 화학 세척에 매우 안정적인 SiC 포커스 링을 공급합니다. SiC 포커스 링 또는 엣지 링은 웨이퍼 가장자리나 주변의 에칭 균일성을 향상시키도록 설계되었습니다. 엄격한 플라즈마 식각 공정을 위해 설계된 고순도 구성 요소를 사용하여 오염과 예정되지 않은 유지 관리를 최소화합니다. SiC 코팅이 적용된 SiC 포커스 링은 조밀하고 내마모성이 있는 탄화규소(SiC) 코팅입니다. 내식성과 내열성이 뛰어나며 열전도율도 우수합니다. 우리는 화학 기상 증착(CVD) 공정을 사용하여 흑연 위에 SiC를 얇은 층으로 도포합니다.

SiC 포커스 링의 매개변수

CVD-SIC 코팅 주요 사양
SiC-CVD 속성
결정 구조	FCC β상
밀도	g/cm ³	3.21
경도	비커스 경도	2500
입자 크기	μm	2~10
화학적 순도	%	99.99995
열용량	Jkg-1 K-1	640
승화 온도	℃	2700
굽힘 강도	MPa(RT 4점)	415
영률	Gpa (4pt 굴곡, 1300℃)	430
열팽창(C.T.E)	10-6K-1	4.5
열전도율	(W/mK)	300