sic 튜브

Semicorex SIC 튜브 (SIC 퍼니스 튜브)는 다양한 응용 분야에서 이상적인 열 안정성, 기계적 강도 및 공격적인 화학 물질에 대한 극심한 저항으로 인해 반도체 산업에서 크게 활용되는 프리미엄 구성 요소입니다. Semicorex SIC 튜브는 고온 처리와 관련된 가장 가혹한 조건에서 살아 남기 위해 설계되었습니다. SIC 튜브는 확산 용광로, LPCVD/PECVD 시스템 및 재료 오염 및 열 차동성이 주요 고려 사항 인 에피 택셜 성장에 사용되는 환경에서 선호되는 우수한 재료입니다.

반음 SIC 튜브는 고급 소결 방법론과 SIC의 순도를 보존하는 프로세스 제어 기술을 사용하여 초고 순도 SIC 분말로 제조됩니다. 결과적으로 SIC 튜브는 최적의 열전도율, 낮은 열 팽창 특성을 가지며 튜브 길이를 따라 무게가 분포되어 빠른 열 사이클링에 노출 될 때에도 열 응력을 효과적으로 최소화합니다. 따라서, SIC 튜브를 이용하면 연속 고온 공정 (최대 1600 ° C) 동안 높은 ATH 존중을 제공하여 반도체 제조 공정의 균일 성을 보장하여 일관된 척도의 전반적인 효율성을 향상시킵니다.

SIC의 주요 장점은 화학적으로 불활성이라는 것입니다. SIC는 사실상 비 다공성 (ASTM-G654 GP-4 등급으로 준수)이며 HCL, NH주, SIH₄ 등을 포함한 반도체 개발에 사용되는 저항성 부식 가스 및 반응성 화학 물질과 관련하여 탁월한 것이 아닙니다. 그러나 석영 튜브는 공격적인 대기에서의 시간을 유명하게 유지할 것이라는 주목할만한 환경에서의 무시 무시성을 유도 할 것이라는 주목합니다. 튜브 변경 및 교체와 관련된 처리량 둔화를 최소화하면서 서비스 시간이 증가합니다. 반도체 제조의 주요 이점은 분명합니다. SIC 튜브를 사용하면 산업 공정과 관련하여 신뢰성을 유지하면서 총 소유 비용을 몇 주 또는 몇 달씩 줄일 수 있습니다.

Semicorex Sic 튜브는 다양한 용광로 설계 및 처리 요구 사항을 수용하기 위해 많은 직경, 길이 및 사용자 정의 사양으로 제공됩니다. 내부 표면은 연마되어 청결을 향상시키고 입자 생성을 줄이며 초 고정 반도체 공간에서 중요한 세부 사항입니다. Semicorex SIC 튜브를 사용하면 오염 위험을 줄이고 공차가 긴장하고 표면 품질이 향상된 웨이퍼 수율 증가에 기여할 수 있습니다.

Semicorex SIC 전문 지식에는 반도체 산업의 엄격하고 까다로운 품질 표준을 충족시키기 위해 정확한 엔지니어링 및 품질 관리에 중점을 둔 수년간의 실리콘 카바이드 처리가 포함됩니다. 당사의 튜브는 검사를 통해 테스트 및 검증되며, 이는 가장 극단적 인 열 환경 내에서 순도, 밀도 및 성능을 보장하는 데 중요합니다. Semicorex는 또한 특정 애플리케이션을위한 퍼니스 시스템 최적화를 지원하기 위해 기술 지원 및 맞춤형 설계 옵션을 제공합니다.

로직 칩, 전력 장치 또는 광전자 제조에 관계없이 Semicorex SIC 튜브는 고온 가공을위한 신뢰할 수 있고 내구성있는 옵션을 나타냅니다. Semicorex를 선택하면 효율성을 보장 할뿐만 아니라 반도체 제조를위한 장기 안정되고 효율적인 프로세스를 보장합니다.