sic 진공 척

Semicorex실리콘 카바이드SIC 진공 척은 정밀 재료 제거 공정 동안 반도체 웨이퍼를 안전하고 안정적으로 유지하도록 설계된 첨단 세라믹 도구입니다. 그들은 초소형, 고온 및 화학적으로 가혹한 환경에서 사용하도록 설계되었습니다. SIC 진공 척은 우수한 웨이퍼 흡착 및 정렬을 전달하는 데 도움이됩니다. 반음 SIC 진공 척은 고순도 실리콘 카바이드 세라믹으로 제조되어 우수한 기계적 강도, 열전도율 및 화학적 내구성을 제공합니다.

진공 척의 주요 작업은 웨이퍼 표면을 가로 질러 균일 흡입을 당겨 검사, 증착, 에칭 및 리소그래피와 같은 프로세스 중에 웨이퍼가 안정적으로 유지되도록하는 것입니다. 전형적인 진공 척은 시간이 지남에 따라 입자 생성, 뒤틀림 또는 화학적 악화에 문제가 있습니다. 극도의 반도체 제조 조건의 경우, SIC 진공 척은 우수한 장기 내구성과 안정성을 제공 할 것입니다.

실리콘 카바이드 재료는 경도, 열 안정성 및 낮은 열 팽창 계수로 높은 가치가 있습니다. 이러한 재료는 광범위한 온도에 걸쳐 치수 적으로 안정적으로 유지되며, 웨이퍼에 열 불일치없이 열 안정성과 프로세스 정확도가 향상 될 수 있습니다. 높은 열전도율은 빠른 열 소산을 허용하며, 이는 빠른 열 초기 램프 업 조건 또는 고 에너지 플라즈마에 대한 짧은 노출에 유용합니다.

SIC 세라믹은 열 및 기계적 이점뿐만 아니라 플라즈마 부식 및 공격적인 공정 가스에 저항력이 있습니다. 이 기능은 석영 또는 알루미늄 질화물 재료를 사용하면 저하 될 수있는 건식 에칭, CVD 및 PVD 공정에 특히 SIC 진공 척이 유리하게 만듭니다. SIC의 화학적 불활성은 오염을 제한하고 도구 가동 시간을 개선하는 데 도움이됩니다.

우수한 성능을 제공하기 위해. Semicorex는 SIC 진공 척을 만들고 Update Micron의 채널 구조가있는 초 플랫 표면으로 매우 엄격한 공차를 지정합니다. 이러한 기능을 사용하면 웨이퍼지지를 위해 정밀한 흡입 및 연속 흡입 영역으로 웨이퍼 지지대를 제공하여 웨이퍼 자체의 워프 또는 파손 가능성을 줄입니다. 다양한 응용 프로그램에서 다양한 웨이퍼 크기 (2 "~ 12")에 맞게 맞춤형 설계 서비스를 이용할 수 있습니다.

수율이 높을수록 프로세스 제어 및 신뢰성이 요인이므로 SIC 진공 척은 차세대 반도체 장비의 새로운 필수 구성 요소입니다. SIC 진공 척의 응용은 직접적으로 증가하여 증가, 장비의 신뢰성 및 가공 제어.