실리콘 카바이드 척

Semicorex 실리콘 카바이드 척의 주요 기능은 화학 기상 증착(CVD), 에칭 및 리소그래피와 같은 반도체 제조 공정의 다양한 단계에서 실리콘 웨이퍼를 안전하게 고정하고 안정화하는 것입니다. 실리콘 카바이드 척은 탁월한 재료 특성으로 높이 평가됩니다. 반도체 제조 장비의 성능과 신뢰성.

탄화규소 척은 높은 열 전도성으로 인해 다양한 이점을 제공합니다. 이를 통해 효율적인 열 방출과 웨이퍼 표면 전체의 균일한 온도 분포를 가능하게 하고 열 구배를 최소화하며 고온 공정 중 웨이퍼 뒤틀림 및 결함 위험을 줄입니다. 이 소재의 강화된 강성과 강도는 웨이퍼의 안정적이고 정밀한 위치 지정을 보장하며, 이는 포토리소그래피 및 기타 중요한 공정에서 정렬 정확도를 유지하는 데 중요합니다. 또한, 실리콘 카바이드 척은 내화학성이 뛰어나 반도체 제조에 흔히 사용되는 부식성 가스 및 화학물질에 대한 불활성을 나타내어 척의 수명을 연장하고 반복 사용에도 성능을 유지합니다. 낮은 열팽창 계수는 극단적인 온도 변동에서도 치수 안정성을 보장하여 열 순환 중에 일관된 성능과 정밀한 제어를 보장합니다. 또한 탄화규소의 높은 전기 저항은 우수한 전기 절연성을 제공하여 전기 간섭을 방지하고 제조되는 반도체 장치의 무결성을 보장합니다.

화학 기상 증착(CVD): 실리콘 카바이드 척은 박막 증착 중에 웨이퍼를 고정하는 데 사용되어 안정적이고 열 전도성이 있는 플랫폼을 제공합니다.

에칭 공정: 화학적 저항성과 안정성으로 인해 탄화규소 척은 반응성 이온 에칭(RIE) 및 기타 에칭 기술에 사용하기에 이상적입니다.

포토리소그래피: 실리콘 카바이드 척의 기계적 안정성과 정밀도는 노광 공정 중 포토마스크의 정렬과 초점을 유지하는 데 필수적입니다.

웨이퍼 검사 및 테스트: 실리콘 카바이드 척은 광학 및 전자 검사 방법을 위한 안정적이고 열적으로 일관된 플랫폼을 제공합니다.

실리콘 카바이드 척은 웨이퍼 처리를 위한 신뢰할 수 있고 안정적이며 열 효율적인 플랫폼을 제공함으로써 반도체 기술 발전에 중요한 역할을 합니다. 열 전도성, 기계적 강도, 내화학성 및 전기 절연성의 독특한 조합으로 인해 반도체 산업에서 없어서는 안 될 구성 요소가 되어 더 높은 수율과 더 안정적인 반도체 장치에 기여합니다.