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중국 실리콘 카바이드 코팅 제조업체, 공급업체, 공장

SiC 코팅은 화학 기상 증착(CVD) 공정을 통해 서셉터 위에 얇은 층을 형성하는 것입니다. 실리콘 카바이드 소재는 실리콘에 비해 10배의 항복 전기장 강도, 3배의 밴드 갭을 포함하여 고온 및 내화학성, 우수한 내마모성 및 열 전도성을 제공하는 등 실리콘에 비해 여러 가지 장점을 제공합니다.

Semicorex는 맞춤형 서비스를 제공하고, 더 오래 지속되는 구성 요소로 혁신을 돕고, 주기 시간을 단축하며, 수율을 향상시킵니다.


SiC 코팅은 몇 가지 고유한 장점을 가지고 있습니다.

고온 저항: CVD SiC 코팅 서셉터는 심각한 열 저하 없이 최대 1600°C의 고온을 견딜 수 있습니다.

내화학성: 탄화규소 코팅은 산, 알칼리 및 유기 용매를 포함한 광범위한 화학 물질에 대한 탁월한 저항성을 제공합니다.

내마모성: SiC 코팅은 재료에 탁월한 내마모성을 제공하여 마모가 심한 응용 분야에 적합합니다.

열 전도성: CVD SiC 코팅은 재료에 높은 열 전도성을 제공하므로 효율적인 열 전달이 필요한 고온 응용 분야에 사용하기에 적합합니다.

높은 강도 및 강성: 탄화규소 코팅된 서셉터는 재료에 높은 강도와 ​​강성을 제공하므로 높은 기계적 강도가 필요한 응용 분야에 적합합니다.


SiC 코팅은 다양한 용도로 사용됩니다.

LED 제조: CVD SiC 코팅 서셉터는 높은 열 전도성과 내화학성으로 인해 청색 및 녹색 LED, UV LED, 원자외선 LED 등 다양한 LED 유형의 가공 공정에 사용됩니다.



이동 통신: CVD SiC 코팅 서셉터는 GaN-on-SiC 에피택셜 공정을 완료하는 HEMT의 중요한 부분입니다.



반도체 처리: CVD SiC 코팅 서셉터는 반도체 산업에서 웨이퍼 처리 및 에피택셜 성장을 포함한 다양한 응용 분야에 사용됩니다.





SiC 코팅 흑연 부품

실리콘 카바이드 코팅(SiC) 흑연으로 제작된 이 코팅은 특정 등급의 고밀도 흑연에 CVD 방법으로 적용되므로 불활성 분위기에서 3000°C 이상, 진공에서 2200°C 이상의 고온로에서 작동할 수 있습니다. .

재료의 특별한 특성과 낮은 질량으로 인해 빠른 가열 속도, 균일한 온도 분포 및 탁월한 제어 정밀도가 가능합니다.


Semicorex SiC 코팅의 재료 데이터

일반적인 속성

단위

가치

구조


FCC β상

정위

분수(%)

111 선호

부피 밀도

g/cm3

3.21

경도

비커스 경도

2500

열용량

Jkg-1 K-1

640

열팽창 100~600°C(212~1112°F)

10-6K-1

4.5

영률

Gpa (4pt 굴곡, 1300℃)

430

입자 크기

μm

2~10

승화 온도

2700

굽힘 강도

MPa(RT 4점)

415

열전도율

(W/mK)

300


결론 CVD SiC 코팅 서셉터는 서셉터와 탄화규소의 특성을 결합한 복합 재료입니다. 이 소재는 고온 및 내화학성, 우수한 내마모성, 높은 열 전도성, 높은 강도 및 강성을 포함한 독특한 특성을 보유하고 있습니다. 이러한 특성으로 인해 반도체 처리, 화학 처리, 열처리, 태양 전지 제조 및 LED 제조를 포함한 다양한 고온 응용 분야에 매력적인 재료가 됩니다.






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SiC ICP 에칭 디스크

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Semicorex SiC ICP Etching Disk는 단순한 부품이 아닙니다. 반도체 산업이 소형화와 성능을 끊임없이 추구함에 따라 SiC와 같은 첨단 소재에 대한 수요는 더욱 강화될 것입니다. 이는 기술 중심 세계에 필요한 정밀도, 신뢰성 및 성능을 보장합니다. Semicorex는 품질과 비용 효율성을 융합한 고성능 SiC ICP 에칭 디스크를 제조 및 공급하는 데 전념하고 있습니다.**

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SiC 코팅 에피택시 디스크

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Semicorex SiC 코팅 에피택시 디스크는 첨단 반도체 장치의 성공을 위해 장비의 정밀도, 내구성 및 견고성이 가장 중요한 반도체 제조에 없어서는 안 될 구성 요소가 되는 광범위한 특성을 가지고 있습니다. Semicorex는 품질과 비용 효율성을 융합한 고성능 SiC 코팅 에피택시 디스크를 제조 및 공급하는 데 전념하고 있습니다.**

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ICP 에칭용 SiC 서셉터

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ICP Etch용 Semicorex SiC 서셉터는 높은 수준의 품질과 일관성을 유지하는 데 중점을 두고 제조됩니다. 이러한 서셉터를 만드는 데 사용되는 강력한 제조 공정은 각 배치가 엄격한 성능 기준을 충족하여 반도체 에칭에서 안정적이고 일관된 결과를 제공하도록 보장합니다. 또한 Semicorex는 빠른 납품 일정을 제공할 수 있는 장비를 갖추고 있으며 이는 반도체 산업의 빠른 처리 요구에 부응하여 품질 저하 없이 생산 일정을 충족하는 데 중요합니다. Semicorex는 고성능 제품을 제조하고 공급하는 데 전념하고 있습니다. 품질과 비용 효율성을 융합한 ICP 식각용 SiC 서셉터.**

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SiC 코팅 지지 링

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Semicorex SiC 코팅 지지 링은 반도체 에피택시 성장 공정에 사용되는 필수 구성 요소입니다. Semicorex는 경쟁력 있는 가격으로 고품질 제품을 제공하기 위해 최선을 다하고 있으며 중국에서 귀하의 장기적인 파트너가 되기를 기대합니다.

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태양전지 확산용 SiC 보트

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태양전지 확산용 Semicorex SiC 보트의 신뢰성과 뛰어난 성능은 태양전지 생산의 까다로운 조건에서도 일관되게 제품을 공급할 수 있는 능력에서 비롯됩니다. SiC의 고품질 재료 특성은 이러한 보트가 광범위한 작동 조건에서 최적의 성능을 발휘하도록 보장하여 태양전지의 안정적이고 효율적인 생산에 기여합니다. 성능 특성에는 탁월한 기계적 강도, 열 안정성 및 환경 스트레스 요인에 대한 저항성이 포함되므로 태양전지 확산용 SiC 보트는 광전지 산업에서 없어서는 안 될 도구입니다.

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