실리콘 카바이드 ICP 에칭 플레이트

실리콘 카바이드 ICP 에칭 플레이트는 에칭 작업에서 웨이퍼에 대한 안정적인 지지와 정밀한 위치 지정을 제공하여 진동이나 변위로 인한 에칭 정밀도 저하를 효율적으로 방지합니다.

실리콘 카바이드 ICP 에칭 플레이트는 열 관리 기능을 갖추고 있습니다. 우수한 열 전도성SIC 세라믹Semicorex는 기존 ICP 에칭 시스템과 완벽하게 통합되고 다양한 구성과 호환되는 Silicon Carbide ICP Etching Plate의 맞춤형 디자인을 제공하여 사용자 편의성을 최우선으로 생각합니다. 이를 통해 원활한 전환이 가능하므로 장비 제조업체에 이상적인 업그레이드 솔루션이 됩니다.

뛰어난 경도와 강도 특성을 바탕으로 Silicon Carbide ICP Etching Plate는 변형이나 손상을 최소화하면서 에칭 공정 중에 발생하는 기계적 응력과 플라즈마 충격을 견딜 수 있는 능력을 보여줍니다. 이 능력은 반도체 장치의 수율과 생산 효율성을 효과적으로 향상시킵니다.

ICP 운영 환경에는 반도체 수준의 청결도가 필요합니다. Semicorex의 실리콘 카바이드 ICP 에칭 플레이트는 ICP 에칭 환경의 화학 가스(예: 염소 및 불소) 및 플라즈마에 대한 탁월한 저항성을 제공하여 이러한 요구 사항을 완벽하게 충족할 수 있습니다. 이 중요한 기능은 에칭 작업 중에 방출되는 오염 물질의 양을 줄여 공정 환경을 깨끗하게 유지합니다.

Semicorex는 기존 ICP 에칭 시스템과 완벽하게 통합되고 다양한 구성과 호환되는 Silicon Carbide ICP Etching Plate의 맞춤형 디자인을 제공하여 사용자 편의성을 최우선으로 생각합니다. 이를 통해 원활한 전환이 가능하므로 장비 제조업체에 이상적인 업그레이드 솔루션이 됩니다.