실리콘 카바이드 진공 척

반음 실리콘 카바이드 진공 척은 높은 정밀도 및 낮은 오염이 필요한 공정을위한 반도체 제조의 중요한 부분입니다. 진공 척은 고순도 다공성 실리콘 카바이드 세라믹으로부터 제조되며 우수한 기계적 강도, 열전도도 및 화학적 불활성을 제공하며, 신뢰할 수있는 진공 유지를위한 정확하게 제어 된 기공 구조를 특징으로한다. 실리콘 카바이드 진공 척은 실리콘 카바이드 (SIC) 세라믹 재료로 만든 기능적 흡착 장치로, 진공 부압, 정전기 흡착 또는 기계적 클램핑에 의존하여 공작물의 안정적인 파악을 제공합니다. 진공 척은 반도체, 태양 광, 정확한 제조 및 재료 고온 저항, 내마모성 및 청결에 대한 수요가 매우 높은 기타 응용 프로그램에 사용됩니다.

의 기초척표면에 걸쳐 예측 가능한 공기 투과성을 갖는 다공성 SIC 물질입니다. 이는 기계적 클램핑없이 웨이퍼를 안전하게 흡수하여 샘플의 물리적 손상 또는 오염의 가능성을 미자화 할 수 있음을 의미합니다. 재료의 다공성은 적절한 진공 분포를 제공하고 내구성있는 열 및 기계적 사이클링에 대한 구조적 요구 사항을 충족시키기 위해, 일반적으로 35-40%의 다공성을 갖는다.

웨이퍼 진공 척일반적으로 표면에 많은 작은 구멍이나 채널이있는 단단한 표면으로 만들어집니다. 이 작은 구멍을 통해 척은 진공 펌프에 연결되어 진공 효과를 만듭니다. 웨이퍼가 척에 배치되면 진공 펌프가 켜지고 작은 구멍을 통해 공기가 그려져 웨이퍼와 척 사이의 진공이 생성됩니다. 이 진공 효과는 웨이퍼를 척 표면에 단단히 부착하기에 충분한 흡입을 만듭니다.

세라믹 표면은 종종 고순도와 화학적 안정성이 필요한 응용 분야에서 사용됩니다. 도자기는 미네랄의 고온 융합에 의해 생성 된 재료입니다. 일반적으로 말하면, 세라믹은 전기 절연체 또는 반도체이며 열 분해, 침식 및 손상에 대한 저항력이 높습니다.

Semicorex는 치수, 다공성, 표면 마감 및 진공 채널링을위한 패턴에 대한 고객의 사양에 맞춤형 실리콘 카바이드 진공 청구를 구축합니다. 제조 및 청정 실 기능의 결과로, 우리는 모든 반도체 팹 및 장비 제조업체의 청결 요구 사항을 수용하기 위해 낮은 미립자 흘림 및 청결을 최고로 제공합니다.

우리는 2 인치 ~ 12 인치 웨이퍼의 모든 크기 웨이퍼에 대한 척을 만들고 척을 수많은 웨이퍼 처리 장비에 통합하기 위해 적응할 수 있습니다. 프론트 엔드 프로세스 및/또는 백엔드 프로세스에 사용될 수 있으며, SIC 진공 청크는 반도체 팹 워크 플로에서 경제적이고 정밀하며 안정적이며 오염이없는 웨이퍼지지 수단으로 만듭니다.

실리콘 카바이드 진공 척은 오늘날의 반도체 제조에서 필수적인 도구로서 최고의 재료와 엔지니어링을 결합합니다. 열 및 화학적 극단을 통한 내구성 있고 부착 된 신뢰성은 왁싱, 가늘어지기, 청소 및 RTA를 포함한 공정 응용 분야에서 완벽한 지원을 제공합니다. Semicorex를 통해 실리콘 카바이드 진공 척을 조달함으로써 모든 웨이퍼 처리 라인에서 우수한 결과를 얻을 수있는 최고의 재료 순도, 맞춤형 솔루션 및 안정적인 성능을 보장합니다.