단결정 실리콘 전극

단결정 실리콘 전극일반적으로 에칭 챔버 상단에 설치되어 상부 전극 역할을 합니다. 단결정 실리콘 전극의 표면에는 균일하게 분포된 미세 구멍이 있어 에칭 가스를 반응 챔버에 고르게 전달할 수 있습니다. 에칭 과정에서 하부 전극과 함께 작용하여 균일한 전기장을 생성하며, 이는 정밀 에칭을 위한 이상적인 작동 조건을 제공하는 데 기여합니다.

신중한 재료 선택

Semicorex는 단결정 실리콘 전극을 제조하기 위해 프리미엄 MCZ 성장 단결정 실리콘을 선택하여 업계 최고의 제품 성능과 품질을 제공합니다.

1. 초고순도

세미코렉스 단결정 실리콘 전극은 99.9999999% 이상의 초고순도를 자랑하며, 이는 내부 금속 불순물 함량이 극히 낮다는 것을 의미합니다.

2. 탁월한 저항 균일성

세미코렉스가 사용하는 MCZ 성장 단결정 실리콘은 기존 CZ 단결정 실리콘과 달리 5% 이하의 저항률 균일성을 달성합니다. 해상도가 낮습니다. 0.02 Ω·cm, 중간 해상도 이하로 제어됩니다. 0.2~25Ω·cm 사이이며 고해상도입니다. 70-90 Ω·cm 사이입니다(요청 시 맞춤 제작 가능).

3. 우수한 소재 구조

MCZ 방법을 통해 성장한 단결정 실리콘은 보다 안정적인 구조와 적은 결함을 제공하므로 Semicorex 단결정 실리콘 전극은 뛰어난 플라즈마 부식 저항성을 제공하고 가혹한 에칭 작업 조건을 견딜 수 있습니다.

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높은 수준의 가공 정밀도

세미코렉스단결정 실리콘전극은 실리콘 잉곳부터 완제품까지 슬라이싱, 표면 연삭, 홀 드릴링, 습식 에칭, 표면 연마 등 전 과정을 거쳐 제조됩니다. Semicorex는 전극의 직경, 두께, 표면 평탄도, 구멍 간격 및 조리개가 이상적인 공차 내에서 유지되도록 각 단계에서 엄격한 정밀 제어를 유지합니다.

1. 미세홀 가공

단결정 실리콘 전극의 미세 구멍은 균일한 간격과 일정한 직경(0.2~0.8mm 범위)을 특징으로 하며 내부 벽이 부드럽고 버가 없습니다. 이는 균일하고 안정적인 식각 가스 공급을 효과적으로 보장하여 웨이퍼 식각의 균일성과 정밀도를 보장합니다.

2. 가공 정확도

Semicorex 단결정 실리콘 전극의 가공 정확도는 0.3mm 이내로 제어되며 연마 정밀도는 0.1μm 이하로 엄격하게 제어될 수 있으며 미세 연삭은 1.6μm 미만입니다.