탄탈륨 카바이드 하프문 부품

Semicorex 탄탈륨 카바이드 하프문 부품은 흑연 기판 위에 탄탈륨 카바이드(TaC) 코팅으로 구성되어 있으며 두 재료의 유리한 특성을 결합하여 까다로운 환경에서 성능과 내구성을 향상시킵니다.

탄탈륨 카바이드는 뛰어난 경도와 높은 융점으로 알려져 있어 극한의 온도 저항이 필요한 응용 분야에 이상적인 소재입니다. 녹는점은 3880°C를 초과하여 알려진 모든 화합물 중에서 가장 높습니다. 이러한 특성 덕분에 탄탈륨 카바이드 하프문 부품은 구조적 무결성이 저하되거나 손실되지 않고 반도체 에피택시 공정에서 발생하는 엄격한 열 사이클을 견딜 수 있습니다. 흑연의 열전도율과 탄탈륨 카바이드의 고온 탄력성이 결합되어 시너지 효과를 만들어 탄탈륨 카바이드 하프문 부품의 전반적인 성능을 향상시킵니다.

반도체 에피택시 공정에서는 물질이 기판 위에 증착되어 얇은 결정질 층을 형성합니다. 이 공정은 오염에 매우 민감하며 극한 조건에서도 순도를 유지할 수 있는 구성 요소가 필요합니다. 탄탈륨 카바이드의 화학적 안정성과 부식 저항성은 탄탈륨 카바이드 하프문 부품이 에피택셜 공정에 불순물을 유입하지 않도록 하여 형성되는 반도체 층의 무결성을 유지합니다. 또한, 탄탈륨 카바이드의 비반응성 특성은 에피택시 공정에 사용되는 가스 및 화학 물질과 상호 작용하는 것을 방지하여 환경의 순도를 더욱 보호합니다.

Halfmoon Part의 기하학적 디자인은 기능성에 있어서 중요한 역할을 합니다. 반달 모양은 에피택시 챔버 내 최적의 배치를 가능하게 하여 재료의 균일한 분포와 일관된 증착 속도를 보장합니다. 또한 이 디자인은 취급 및 설치가 용이하고 설치 및 유지 관리 중 손상 위험을 줄여줍니다. 탄탈륨 카바이드 하프문 부품의 정밀 엔지니어링을 통해 반도체 제조에 필요한 엄격한 공차를 충족하고 모든 용도에서 안정적인 성능을 제공합니다.