웨이퍼 보트

Semicorex Wafer Boat는 고온, 부식성 환경, 확산 공정 중 정밀한 웨이퍼 배치 요구 등 확산로의 가혹한 조건을 견딜 수 있도록 설계되었습니다.

웨이퍼 보트는 탁월한 특성을 위해 선택된 탄화규소 세라믹으로 만들어졌습니다. 탄화규소는 높은 열 전도성으로 알려져 있어 확산 중에 웨이퍼 전체에 균일한 온도 분포를 보장합니다. 이러한 균일성은 웨이퍼의 무결성을 유지하고 제조되는 반도체 장치의 기능에 필수적인 일관된 도핑 수준을 보장하는 데 중요합니다. 또한 실리콘 카바이드의 높은 녹는점과 열 안정성 덕분에 웨이퍼 보트는 확산 공정에 필요한 높은 온도(종종 1000°C를 초과함)에서 성능 저하나 왜곡 없이 작동할 수 있습니다.

웨이퍼 보트에 사용되는 탄화규소 세라믹의 주요 장점 중 하나는 뛰어난 내화학성입니다. 이 저항은 반도체 웨이퍼의 순도를 유지하는 데 특히 중요합니다. 오염이 발생하면 최종 제품에 결함이 발생하여 집적 회로의 성능이 저하될 수 있기 때문입니다.

웨이퍼 보트의 구조적 무결성은 설계의 또 다른 중요한 요소입니다. 설계에서는 반응성 가스에 고르게 노출될 수 있도록 정확한 간격으로 웨이퍼가 제자리에 단단히 고정되도록 해야 합니다. 이러한 정밀도는 모든 웨이퍼에 걸쳐 균일한 도핑을 달성하는 데 필수적이며, 이는 반도체 장치의 전기적 특성에 직접적인 영향을 미칩니다.

열적 및 화학적 특성 외에도 탄화규소 세라믹은 반도체 제조의 고정밀 요구 사항에 중요한 탁월한 치수 안정성을 제공합니다. 이러한 안정성은 웨이퍼가 완벽하게 정렬된 상태를 유지하도록 보장하여 각 웨이퍼의 전체 표면에 도펀트가 정확하고 균일하게 확산되어 고품질 반도체 장치를 생산할 수 있게 해줍니다.

탄화규소 세라믹으로 만든 Semicorex Wafer Boat는 반도체 확산 공정의 필수 구성 요소입니다. 탁월한 열 전도성, 내화학성, 기계적 강도 및 치수 안정성으로 인해 반도체 제조의 까다로운 조건에 이상적으로 적합합니다. 이를 사용하면 확산 공정의 효율성과 신뢰성이 향상될 뿐만 아니라 반도체 제조의 전반적인 비용 효율성에도 기여합니다.